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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Lichtbogenverdampfen mit überlagert gepulster Biasspannung
 
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1992
Journal Article
Title

Lichtbogenverdampfen mit überlagert gepulster Biasspannung

Abstract
Die Einsatzgebiete von Metallisierungen oder verschleißarmen Hartstoffbeschichtungen, die mit PVD (Physical Vapour Deposition)-Verfahren erzeugt werden, nehmen laufend zu. Damit verknüpft sind erhöhte Anforderungen an die Verfahren bezüglich Flexibilität und Qualität. Moderne Verfahren wie das Booster-Sputtern, das Elektronenstrahlverdampfen oder das Lichtbogenverdampfen nutzen die Möglichkeit, Ionen zu erzeugen und zu beschleunigen, um die Schichtqualität zu steigern. Die Verwendung einer überlagert gepulsten Biasspannung im PVD-Prozeß ist ein Werkzeug, um die im Prozeß vorhandenen Ionen noch effizienter zu nutzen.
Author(s)
Olbrich, W.
Journal
Dünne Schichten  
Language
German
Fraunhofer-Institut für Produktionstechnik und Automatisierung IPA  
Keyword(s)
  • Bias Voltage

  • Biasspannung

  • Lichtbogenverdampfen

  • physical vapour deposition

  • Physikalisches Aufdampfen

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