Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Lichtbogenverdampfen mit überlagert gepulster Biasspannung

 
: Olbrich, W.

Dünne Schichten 3 (1992), No.2, pp.20-23
ISSN: 0941-7168
German
Journal Article
Fraunhofer IPA ()
Bias Voltage; Biasspannung; Lichtbogenverdampfen; physical vapour deposition; Physikalisches Aufdampfen

Abstract
Die Einsatzgebiete von Metallisierungen oder verschleißarmen Hartstoffbeschichtungen, die mit PVD (Physical Vapour Deposition)-Verfahren erzeugt werden, nehmen laufend zu. Damit verknüpft sind erhöhte Anforderungen an die Verfahren bezüglich Flexibilität und Qualität. Moderne Verfahren wie das Booster-Sputtern, das Elektronenstrahlverdampfen oder das Lichtbogenverdampfen nutzen die Möglichkeit, Ionen zu erzeugen und zu beschleunigen, um die Schichtqualität zu steigern. Die Verwendung einer überlagert gepulsten Biasspannung im PVD-Prozeß ist ein Werkzeug, um die im Prozeß vorhandenen Ionen noch effizienter zu nutzen.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-22071.html