Publica
Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
The lateral-extension of radiation damage in ion-implanted semiconductors.
Seitliche Ausdehnung des Strahlungsschadens in ionenimplantierten Halbleitern
:
Fritzsche, C.R.
;
Rothemund, W.
Applied physics. A (1983), No.32, pp.129-134 : Abb.,Tab.,Lit.
ISSN: 0340-3793
ISSN: 0721-7250
ISSN: 0947-8396 (Print)
ISSN: 1432-0630 (Online)
English
Journal Article
Fraunhofer IAF
(
)
Galliumarsenid
;
Galliumphosphid
;
implantation
; Packungsfehler
;
Rasterelektronenmikroskop
;
Rekristallisation
; Schicht(amorph)
;
Silizium
; Strahlungsschaden
:
http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-21774.html
