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Laserstrahlunterstütztes PVD-Verfahren. FKZ 13 N 5611

 

VDI-Technologiezentrum Physikalische Technologien, Düsseldorf:
Dünnschichttechnologien '90. Bd.2
Düsseldorf: VDI-Verlag, 1990
ISBN: 3-18-401046-5
pp.367-379 : Abb.,Tab.,Lit.
German
Book Article
Fraunhofer ILT ()
Abscheidungszeit; Ionenplattieren; Kathodenzerstäubung; Keramikschicht; Laserstrahlungsquelle; PVD-Verfahren

Abstract
Auf Oberflächen metallischer Werkstoffe werden mit einem laserstrahlungsunterstützten PVD-Verfahren (LPVD-Verfahren) Hartstoff- und Keramikschichten aufgebracht. Eine LPVD-Versuchsanlage erlaubt die Untersuchung der physikalischen Prozesse. Typische Schichtdecken der Al2O3-Schichten (gepulste TEA-CO2-Laserstrahlungsquelle) bzw. TiN-Schichten (kontinuierliche CO2-Laserstrahlungsquelle) liegen im Bereich von einigen mym bei Abscheidungszeiten von einigen 10 Minuten.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-21732.html