Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Ion beam sensitivity of polymer resists.

Ionenstrahlempfindlichkeit von Polymer-Photolacken
 
: Ryssel, H.; Haberger, K.; Kranz, H.

Journal of vacuum science and technology 19 (1981), pp.1358-1362 : Abb.,Tab.,Lit.
ISSN: 0022-5355
English
Journal Article
Fraunhofer IFT; 2000 dem IZM eingegliedert
Empfindlichkeit; Ionenstrahl; Lithographie; Photolack

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-20057.html