Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Heteroepitaktische Abscheidung von Diamant auf Silicium

 
: Klages, C.-P.; Füßer, H.-J.

Spektrum der Wissenschaft (1993), Jan., pp.18-19
ISSN: 0170-2971
German
Journal Article
Fraunhofer IST ()
Diamantschicht; diamond thin film; Heteroepitaxie; heteroepitaxy

Abstract
A method allowing heteroepitaxial CVD growth of diamond on single-crystalline silicon substrates has recently been discovered. This development is an important step towards a microelectronic technology based on diamond films.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-16979.html