Fraunhofer-Gesellschaft

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Gasversorgungseinrichtung fuer eine Molekularstrahlepitaxieanlage

Gas supply device for a molecular beam epitaxy facility
 
: Bachem, K.H.; Hofmann, P.; Koehler, K.

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Frontpage ()

DE 1987-3715717 A: 19870512
DE 1987-3715717 A: 19870512
DE 3715717 C2: 19890817
H01L0021
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IAF ()

Abstract
Bei einer Gasversorgungseinrichtung fuer eine Molekularstrahlepitaxieanlage wird mit Hilfe eines Regelsystems aus einem Regelventil (4) und einem Drucksensor (6) ein konstanter Druck in einer Speiseleitung (5) aufrechterhalten, die ueber ein Speiseventil (8) und eine flusskalibrierte Drossel (9) mit der Zufuhrleitung einer Gasquelle (1) sowie ueber eine Entsorgungsleitung (11), ein Schaltventil (12) und eine flusskalibrierte Drossel (13) mit einem Entsorgungssystem (14) verbunden ist. Das Speiseventil (8) und das Schaltventil (12) werden im Gegentakt geschaltet, wenn die Gaszufuhr zur Gasquelle (1) umgeschaltet wird.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-15776.html