Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Edge roughness of a 200 nm pitch resist pattern fabricated by ion projection lithography

 
: Brünger, W.H.; Blaschke, J.; Torkler, M.; Buchmann, L.-M.

:

Journal of vacuum science and technology B. Microelectronics and nanometer structures 11 (1993), pp.2404-2408
ISSN: 0734-211X
ISSN: 1071-1023
English
Journal Article
Fraunhofer ISIT ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PX-10523.html