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Photodiode

Photodiode, especially fast photodiode, has semiconducting substrate, photosensitive region with spatial charging zone and diffusion regions, isolation device for delimiting diffusion region.
 
: Hehemann, I.; Kemna, A.

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DE 2002-10223202 A: 20020524
DE 2002-10223202 A: 20020524
WO 2003-EP5378 A: 20030522
EP 2003-730096 AW: 20030522
DE 10223202 A1: 20031211
EP 1508173 A1: 20050223
H01L0031
H01L0031
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IMS ()

Abstract
Eine Photodiode umfasst neben einem Halbleitersubstrat und einem photoempfindlichen Bereich in dem Halbleitersubstrat, der einen Raumladungszonenbereich zum Erzeugen eines Diffusionsstromanteils und einen Diffusionsbereich zum Erzeugen eines Diffusionsstromanteils aufweist, eine Isolationseinrichtung in dem Halbleitersubstrat zum zumindest teilweisen Eingrenzen des Diffusonsbereichs gegenueber einem angrenzenden Umgebungsbereich des Halbleitersubstrats. Die Verringerung der Bandbreite von Photodioden durch das Verschmieren der Antwort der Photodiode durch den Diffusionsstrom wird dadurch gemindert, dass eine Isolationseinrichtung in dem Halbleitersubstrat vorgesehen wird, welche den Diffusionsbereich gegenueber dem umgebenden Halbleitersubstrat eingrenzt und hierdurch einerseits die Anzahl von zum Diffusionsanteil beitragenden Ladungstraegern dadurch verringert, dass der Diffusionsbereich, in welchem die diffundierenden Ladungstraeger erzeugt werden, verringert wird, und andererseits dadurch, dass in dem verkleinerten Diffusionsbereich erzeugte diffundierende Ladungstraeger durch die Isolationseinrichtung "abgesaugt" werden, weshalb dieselben nicht zum Photostrom beitragen.

 

WO2003100871 A UPAB: 20040115 NOVELTY - The device has a semiconducting substrate (12), a photosensitive region (18,24) in the substrate with a spatial charging zone region (18) for producing a drift current component and a diffusion region (24) for producing a diffusion current component and an isolation device (20) in the substrate for at least partly delimiting the diffusion region from a bounding surrounding region (28) of the substrate. USE - E.g. for optical memories and optical messaging. ADVANTAGE - Enables faster reading.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PP-1452.html