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Vorrichtung zur Erzeugung eines gepulsten Plasmas innerhalb einer Vakuumkammer mittels eines Festkoerpertargets, mit mindestens einer Debris-Blende

Device for generating pulsed plasma in vacuum chamber with solid state target has at least one debris stop that rotates about axis between optical element or substrate and plasma in vacuum chamber.
 
: Loyen, L.v.; Boettger, T.; Braun, S.; Mai, H.

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DE 2002-10233567 A: 20020722
DE 2002-10233567 A: 20020722
DE 10233567 A1: 20040212
H05H0001
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IWS ()

Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung eines gepulsten Plasmas innerhalb einer Vakuumkammer mittels eines Festkoerpertargets, mit mindestens einer Debris-Blende. Das gepulste Plasma kann zur Beschichtung von Substratoberflaechen, aber auch fuer die Emission elektromagnetischer Strahlung, bevorzugt im Wellenlaengenbereich der EUV-Strahlung eingesetzt, werden. Mit der erfindungsgemaessen Vorrichtung sollen Intensitaetsverluste emittierter elektromagnetischer Strahlung eingehalten sowie eine effektive kostenguenstige Schutzmoeglichkeit optischer Elemente oder zu beschichtender Substratoberflaechen erreicht werden. Zur Loesung dieser Aufgabe wird innerhalb der Vakuumkammer mindestens eine um eine Drehachse rotierende Debris-Blende zwischen einem optischen Element oder einem zu beschichtenden Substrat und dem Plasma innerhalb der Vakuumkammer angeordnet. An der Debris-Blende ist ein Kanal fuer elektromagnetische Strahlung oder eine Beschichtung auf einem Substrat bildende Plasmabestandteile, der ueber seine gesamte Laenge einen definierten Querschnittsverlauf aufweist, vorhanden. Die Drehachse der Debris-Blende ist dabei orthogonal zur Laengsachse des Kanals ausgerichtet.

 

DE 10233567 A UPAB: 20040324 NOVELTY - The device has at least one rotating debris stop (1,1') arranged between an optical element (2,3) or substrate and the plasma (7) in the vacuum chamber. A channel (4) for electromagnetic radiation (5,6) or plasma constituents forming a coating on a substrate with a defined cross-sectional profile over its entire length is present on the stop and the rotation axis of the debris stop is orthogonal to the longitudinal axis of the channel. USE - For generating a pulsed plasma in a vacuum chamber with a solid state target. ADVANTAGE - Enables effective, inexpensive protection of optical elements or substrate surfaces to be coated against debris radiation and intensity losses of electromagnetic radiation to be kept low.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PP-1407.html