Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Einrichtung zum Beschichten durch Magnetron-Sputtern

Coating device for depositing layers of alloys, mixtures or reaction products of different materials by magnetron sputtering has a target made from concentrically arranged partial targets each made from the material to be deposited.
 
: Liebig, J.; Kirchhoff, V.; Goedicke, K.; Winkler, T.; Frach, P.

:
Frontpage ()

DE 2002-10234856 A: 20020731
DE 2002-10234856 A: 20020731
DE 10234856 A1: 20040212
H01J0037
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer FEP ()

Abstract
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zum Beschichten durch Magnetron-Sputtern zum Abscheiden von Schichten aus Legierungen, Gemischen oder Reaktionsprodukten mindestens zweier stofflich unterschiedlicher Materialien durch Magnetron-Sputtern, umfassend mindestens ein Target und eine magnetfelderzeugende Einrichtung, bei der das Target aus mindestens zwei konzentrisch angeordneten Teiltargets (1; 2) zusammengesetzt ist, von denen jedes aus einem der abzuscheidenden Materialien besteht, die Trennlinien zwischen den Teiltargets im Wesentlichen parallel zu den Pollinien der magnetfelderzeugenden Einrichtung verlaufen, die Teiltargets elektrisch verbunden sind und die magnetfelderzeugende Einrichtung den Teiltargets (1; 2) zugeordnete elektromagnetische Spulen (3; 4) enthaelt und mit Mitteln ausgestattet ist, die eine Veraenderung der Lage der magnetischen Polstellen gegenueber den Trennlinien der Teiltargets bewirken koennen.

 

DE 10234856 A UPAB: 20040326 NOVELTY - Coating device comprises a target and a unit producing a magnetic field. The target is made from two concentrically arranged partial targets (1, 2) each made from the material to be deposited. Separating lines run between the partial targets parallel to the pole lines of the unit producing a magnetic field. The partial targets are electrically connected. The unit producing a magnetic field contains electromagnetic coils (3, 4) assigned to the partial targets and has devices which can change the position of the magnetic pole opposite the separating lines of the partial targets. USE - For depositing layers of alloys, mixtures or reaction products of at least two different materials by magnetron sputtering e.g. in electronics, display technology, tool coating, decorative coating and in optical applications. ADVANTAGE - The device is compact and produces layers having high uniformity, homogeneity and long-term stability.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PP-1400.html