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Einrichtung zur Erzeugung einer Magnetron-Entladung

Device for producing a magnetron discharge, especially for magnetron sputtering, in the coating of substrates has a unit producing a magnetic field having a fixed position relative to the outer target limit in the region of the outer pole.
 
: Goedicke, K.; Liebig, J.; Kirchhoff, V.; Winkler, T.

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DE 2002-10234858 A: 20020731
DE 2002-10234858 A: 20020731
DE 10234858 A1: 20040212
H01J0037
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer FEP ()

Abstract
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zur Erzeugung einer Magnetronentladung, insbesondere zum Magnetron-Sputtern mit einem als Katode geschalteten ebenen laengsgestreckten Target und einer magnetfelderzeugenden Einrichtung, ferner mindestens einer Anode, einer Stromversorgung, einem Substrat und einer Gaseinlassvorrichtung sowie einem Rezipienten, in der die magnetfelderzeugende Einrichtung so ausgefuehrt ist, dass sie im Bereich des Aussenpols eine vorgegebene ortsfeste Lage relativ zur aeusseren Targetbegrenzung aufweist und im Bereich des Innenpols mit elektromagnetischen Mitteln ausgestattet ist, derart, dass die Lage des Mittelpols relativ zum Target nach einem vorgebbaren Zeitprogramm geaendert werden kann.

 

DE 10234858 A UPAB: 20040326 NOVELTY - Device for producing a magnetron discharge, especially for magnetron sputtering, comprises a longitudinally extending target connected as cathode, a unit producing a magnetic field, an anode, a current supply, a substrate, a gas inlet unit and a receiver. The unit producing a magnetic field is structured so that it has a fixed position relative to the outer target limit in the region of the outer pole and has electromagnetic units in the region of the inner pole to position the center pole relative to the target according to a prescribed time program. USE - For coating substrates using magnetron sputtering. ADVANTAGE - The formation of a re-deposition zone is avoided.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PP-1399.html