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Gasentladungslampe

Gas discharge lamp for extreme UV lithography or X-ray microscopy has tapered electrode opening for transport of charge carriers from external region to discharge space.
 
: Bergmann, K.; Vaudrevange, D.

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DE 2002-10238096 A: 20020821
DE 2002-10238096 A: 20020821
WO 2003-IB3657 A: 20030811
DE 10238096 B3: 20040219
H01J0061
H05G0002
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer ILT ()

Abstract
Die Erfindung betrifft eine Gasentladungslamape fuer den Wellenlaengenbereich extremer Ultraviolettstrahlung und/oder weicher Roentgenstrahlung, mit mindestens zwei Elektroden zur Bereitstellung eines strahlungsemittierenden Plasmas im dazwischen befindlichen Entladungsraum, bei der eine der Elektroden eine durchgehende Oeffnung zu einem angrenzenden Aussenbereich aufweist, wobei im Aussenbereich Ladungstraeger erzeugbar sind, welche ueber die Oeffnung in den Entladungsraum transportierbar sind, und die dadurch gekennzeichnet ist, dass sich die Elektrodenoeffnung in Richtung des Aussenbereichs verjuengt.

 

DE 10238096 B UPAB: 20040305 NOVELTY - The gas discharge lamp has at least 2 electrodes (1,2) for generation of a radiation emission plasma (8) in a discharge space (6) between them, one of the electrodes provided with an opening (4) leading to an adjacent external region (9) in which charge carriers are generated. The opening allows transport of the charge carriers to the discharge space, the opening tapering in the direction of the external region. USE - The gas discharge lamp is used for providing radiation in the extreme UV and/or soft X-ray range, e.g. for extreme UV lithography or X-ray microscopy. ADVANTAGE - Tapering of electrode opening provides improved stability of radiation emission.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/PP-1380.html