Vorrichtung zum Durchführen von Elektronenstrahlprozessen

(A1) Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Durchfuehren von Elektronenstrahlprozessen an mindestens einem Substrat, umfassend einen Axialstrahler zum Erzeugen eines Elektronenstrahls, der in eine an den Axialstrahler angrenzende evakuierbare erste Arbeitskammer gerichtet ist, wobei in der ersten Arbeitskammer thermische Elektronenstrahlprozesse durchfuehrbar sind, wobei die erste Arbeitskammer auf der dem Axialstrahler gegenueberliegenden Seite in Elektronenstrahlrichtung ein Elektronenaustrittsfenster aufweist, durch welches Elektronen des Elektronenstrahls in eine zweite Arbeitskammer hindurchtreten und dort nicht-thermische Prozesse ausfuehren koennen.

DE 102007021893 A1 UPAB: 20081126 NOVELTY - An electron beam emitter for thermal and non-thermal processes has a substrate with an axial electron beam (6) emitter (1) directed through a first vacuum chamber (2) in which thermal processes may be executed. The chamber (2) has a substrate holder and moving device (8). The first chamber has a beam exit window (4) to a second chamber (3) with a second substrate holder (9). USE - Electron beam emitter and process chamber for e.g. electron beam welding, edge hardening for metals, cross-linking plastic materials, paint hardening, research and development applications, education. ADVANTAGE - The electron beam assembly is suitable for both thermal and non-thermal processes.