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Verfahren zur Herstellung einer Nanostruktur an einer Kunststoffoberflaeche

Generating nanostructure on plastics substrate, e.g. to reduce reflection of optical element, by plasma etching after application of thin layer, e.g. of silicon oxide, to reduce etching time
 
: Munzert, P.; Schulz, U.; Scheler, M.; Kaiser, N.

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DE 102006056578 A: 20061130
DE 102006056578 A: 20061130
C08J0007
C08J0005
C23C0014
B82B0003
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IOF ()

Abstract
(A1) Bei dem erfindungsgemaessen Verfahren zur Erzeugung einer Nanostruktur (6) an einer Oberflaeche eines Substrats (1) aus einem Kunststoff mit einem Plasmaaetzprozess wird eine duenne Schicht (2) auf das Kunststoffsubstrat (1) aufgebracht und anschliessend der Plasmaaetzprozess durchgefuehrt. Durch die mit dem Verfahren erzeugte Nanostruktur (6) wird insbesondere die Reflexion der Oberflaeche des Kunststoffsubstrats (1) vermindert.

 

DE 102006056578 A1 UPAB: 20080806 NOVELTY - In a method for generating a nanostructure on the surface of substrate of plastics by plasma etching, a thin layer is applied to the substrate before carring out the plasma etching. USE - Specifically the substrate is an optical element, a transparent cover for an optical display device or a plastics film; and the nanostructure reduces the reflection of the substrate (all claimed). ADVANTAGE - Application of the thin layer reduces the time required for plasma etching and allows plasma etching microstructuring methods to be applied to a wider range of plastics substrates. Several substrates can be treated simultaneously in the same vacuum chamber.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-81998.html