Abstract
Reaktive Magnetron-Zerstäubungsprozesse haben sich vielfach zur Glasveredelung mit oxid- und nitridbasierten optischen und elektrischen Funktionsschichten hoher Schichtqualität durchgesetzt. Die entscheidende Herausforderung ist hierbei die gleichzeitige Forderung von Prozeßstabilität, maximaler Beschichtungsrate und Einhaltung der Schichtstöchiometrie. Deshalb wird im Hinblick auf eine gleich bleibend hohe Produktqualität oftmals ein eingeschränktes Prozeßfenster und ein Verzicht auf eine Steigerung der Beschichtungsrate zugunsten der Prozeßstabilität in Kauf genommen. Die in der vorliegenden Arbeit - ausgehend von der Prozeßsimulation - untersuchten Ansätze zur In-situ-Kontrolle und Regelung des Beschichtungsprozesses bieten daher noch ein enormes Potential zur Effizienzsteigerung des Verfahrens. Für ein Gesamtregelungskonzept wird neben der Stabilisierung des reaktiven Zerstäubungsprozesses die leistungsfähige In-situ-Spektralellipsometrie in die Prozeßkontrolle integriert und im Hinblick auf die industrielle Umsetzung in der Architekturglasbeschichtung in Zusammenarbeit mit der SENTECH Instruments GmbH erstmals an einer Inline-Anlage zur Architekturglasbeschichtung adaptiert.