Fraunhofer-Gesellschaft

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Mikrowellen-PECVD für kontinuierliche Großflächenbeschichtung bei Atmosphärendruck

Microwave PECVD for continuous wide area coating at atmospheric pressure
 
: Dani, I.; Tschöcke, S.; Kotte, L.; Mäder, G.; Dresler, B.; Hopfe, V.

:

Vakuum in Forschung und Praxis 19 (2007), No.3, pp.22-24
ISSN: 0947-076X
ISSN: 1522-2454
German
Journal Article
Fraunhofer IWS ()

Abstract
Plasma-Oberflächenprozesse werden zur Veredlung von Halbzeugen und Bauteilen vielfältig eingesetzt, typische Beispiele sind Beschichtungen für einen verbesserten Korrosions- und Kratzschutz oder die Oberflächenreinigung. Da diese Prozesse jedoch in der Regel im Vakuum ablaufen, sind sie für großflächige industrielle Anwendungen wenig geeignet. Durch den Übergang zur Atmosphärendruck-Plasmatechnologie ergeben sich günstige Möglichkeiten zur Integration in kontinuierliche Produktionslinien und damit verbundene Vorteile hinsichtlich Kosten und erhöhtem Durchsatz. Mikrowellen-Plasmaquellen bilden sehr leistungsstarke Module für die plasmagestützte chemische Gasphasenbeschichtung (PECVD) bei Atmosphärendruck.
Im Fraunhofer IWS werden sowohl Prozess- und Anlagenentwicklungen durchgeführt als auch applikationsspezifische Materialentwicklungen. Die Beschichtungen eignen sich beispielsweise für Kratzfestausrüstungen auf Metalloberflächen, als Barriere- oder Korrosionsschutzschichten oder als Antireflexionsschichten auf Solarzellen. Die erzielten Schichteigenschaften entsprechen weitgehend denen aus Niederdruck-PECVD Prozessen.

 

Plasma processes are applied for a variety of surface modifications. Examples are coatings to achieve an improved corrosion and scratch protection, or surface cleaning. Normally, these processes are vacuum based and therefore suitable to only a limited extend for large area industrial applications. By use of atm. pressure plasma technol. integration in continuously working manufg. lines is advantageously combined with lower costs and higher throughput. Microwave plasma sources present powerful modules for plasma enhanced chem. vapor deposition at atm. pressure. At Fraunhofer IWS processes and equipment as well as application specific materials are developed. The coatings are suitable for scratch resistant surfaces, barrier and corrosion protective layers or antireflex layers on solar cells. The film properties achieved are comparable with those produced by low pressure processes.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-74272.html