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Title
Vorrichtung zum Elektronenstrahlverdampfen
Date Issued
2006
Author(s)
Heinß, J.-P.
Metzner, C.
Tenbusch, M.
Mattausch, G.
Patent No
102006023463
Abstract
(A1) Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Elektronenstrahlverdampfen, umfassend eine in einer Vakuumarbeitskammer (2) angeordnete Elektronenstrahlkanone (6) zum Erzeugen eines Elektronenstrahls (7), mittels dem ein in einem Gefäß (4) enthaltenes Material (5) verdampfbar ist; eine Mantelfläche (9), die den aufsteigenden Materialdampf zwischen Gefäß (4) und einem zu beschichtenden Substrat (3) nahezu vollständig umhüllt, wobei die Mantelfläche (9) keine senkrecht oder waagerecht verlaufenden Teilflächen umfasst; eine erste Öffnung (10) aufweist, durch die der Elektronenstrahl (7) hindurchtritt und während eines Verdampfungsvorgangs auf Temperaturen einstellbar ist, die über der Schmelztemperatur des im Gefäß (4) enthaltenen Materials (5) liegen.
DE 102006023463 A1 UPAB: 20080226 NOVELTY - Electron beam vaporization apparatus has a hood (9) between the crucible (4) and substrate (3) to be coated. This is in the form of a frustrum of a cone or pyramid with the narrow end near the substrate. A window (10) in the mantle wall allows the electron beam (7) to penetrate. USE - Electron beam vaporization apparatus. ADVANTAGE - Formation of parasitic coatings is reduced, reducing down-time for cleaning.
Language
de
Patenprio
DE 102006023463 A: 20060518