Fraunhofer-Gesellschaft

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Deflektometrie zur Ebenheitsbestimmung. Anwendung der Streifenreflexion zur Waferinspektion

 
: Schmitt, R.; Köllmann, D.; Herben, M.

VDI/VDE-Gesellschaft Meß- und Automatisierungstechnik -GMA-, Düsseldorf:
Optische Messung technischer Oberflächen in der Praxis : Bestimmung von Geometrie und Topographie; Tagung Hannover, 9. und 10. Oktober 2007
Düsseldorf: VDI Verlag, 2007 (VDI-Berichte 1996)
ISBN: 978-3-18-091996-6
pp.277-286
Fachtagung Optische Messung Technischer Oberflächen <2007, Hannover>
German
Conference Paper
Fraunhofer IPT ()
Anwendbarkeit; Deflektor; Ebenheitsmeßgerät; Ebenheitsmessung; Inspektion; Meßprinzip; Oberflächeneigenschaft; optische Reflexion; Wafer=Halbleiterplättchen

Abstract
Die Deflektometrie ist ein neuartiger und vielversprechender Ansatz für die Ebenheitsmessung von spiegelnden Oberflächen. Der Artikel beschäftigt sich mit der Eignungsuntersuchung dieses Messprinzips zur Ebenheitsbestimmung anhand der Messaufgabe Waferinspektion. In ausführlichen Versuchen konnte die Wiederholpräzision aufgezeigt und bei der Vergleichsmessung mit einem Interferometer die Richtigkeit der Messergebnisse nachgewiesen werden. Gegenstand der Untersuchung war unter anderem die Streuung der Messparameter Spannweite, Standardabweichung und rms. Anhand des Beispiels Wafermessung wurden sowohl Vor- als auch Nachteile des deflektometrischen Messprinzips umfassend dargestellt.
Entnommen aus TEMA

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-69109.html