Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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3D-electromagnetic field simulation for Low-k1 lithography applications

3D-elektromagnetische Feldsimulation für Lithographieanwendungen mit kleinem k1
 
: Erdmann, A.; Gordon, R.; McCallum, M.; Rosenbusch, A.

Microlithography World 10 (2001), No.1, pp.5-10
ISSN: 1074-407X
English
Journal Article
Fraunhofer IIS B ( IISB) ()
optische Lithographie; simulation; rigorose Beugungstheorie; Phasenmaske

Abstract
Optical simulation programs that solve Maxwell´s equations can explain three dimensional effects on advanced photomasks that impact real world lithography, especially when using alternating phase-shift masks.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-6849.html