Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Dreidimensionale Simulation von Schichtabscheideprozessen in der Halbleitertechnologie

 
: Bär, E.

:
Fulltext urn:nbn:de:0011-n-67927 (PDF)
MD5 Fingerprint: af26ed0a2ba046b57370b378b228c346
Created on: 11.08.2005


Erlangen, 1998, 103 pp.
Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 1998
German
Dissertation, Electronic Publication
Fraunhofer IIS B ( IISB) ()
Halbleitertechnologie; Prozess-Simulation; Schichtabscheideprozess

Abstract
Es wurden Modelle für die dreidimensionale Simulation der Abscheidung verschiedener für die Halbleitertechnologie relevanter Schichten mittels chemischer und physikalischer Verfahren entwickelt und in ein Simulationsprogramm implementiert. Die Diskretisierung der Strukturen und die numerische Implementierung der Modelle werden beschrieben. Die Simulationsergebnisse zeigen für verschiedene Systeme (chemische Gasphasenabscheidung von Siliciumdioxid, Wolfram und Polysilicium, physikalische Gasphasenabscheidung von TiN) gute Übereinstimmung mit experimentellen Ergebnissen aus eigenen Messungen bzw. aus der Literatur.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-6792.html