In-situ investigations of the surface-topography under ECM-conditions

Zur in-situ-Untersuchung der Modifikationen in der Oberflächen- Topografie während der anodischen Auflösung bei der elektrochemischen Bearbeitung (ECM) wurde eine spezielle, maßstäblich veränderte ECM- Laborzelle entwickelt. Mit Hilfe eines Mikroskops FS60, eines Laserstrahls und eines Phototransistors PT331C wurden Veränderungen der Oberflächenrauigkeit und der Mikrostruktur bei technisch reinem Kupfer und austenitischem Chromnickelstahl erfasst. Die Proben hatten bei 3 mm Durchmesser eine Länge von 3 cm; die Stromdichte betrug 25 Acm(exp -2); die Pulsdauer variierte zwischen 0,5 s und 1 s. Die ersten Ergebnisse belegen, dass die Ausbildung der Oberflächenstruktur wesentlich vom bearbeiteten Werkstoff abhängt, und dass die Pulsdauer und -sequenz einen großen Einfluss haben. Während die wiederholte Anwendung von 0,5-s- Pulsen bei Chromnickelstahl zu verstärkter Ausbildung der Mikrostruktur führt, zeigen die mikroskopischen Aufnahmen bei Kupfer einen kontinuierlichen Anstieg der Rauigkeit. Die über Laserstrahl und Phototransistor ermittelten Rauigkeitswerte werden dagegen als Glättung der gesamten Oberfläche interpretiert.