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Title
Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Schichten mit verbesserter Uniformität bei Beschichtungsanlagen mit horizontal rotierender Substratführung mit zusätzlichen Plasmaquellen
Date Issued
2021
Patent No
202010201829
Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Herstellung von Schichten mit einstellbarer Schichtdickenverteilung bei Beschichtungsanlagen mit horizontal rotierender Substratführung. Es kann eine sehr homogene Verteilung oder auch eine gezielt inhomogene Verteilung eingestellt werden. Zudem wird die Partikelbelastung deutlich reduziert. Die Standzeit ist gegenüber anderen Verfahren deutlich erhöht. Parasitäre Beschichtungen werden reduziert.
Language
de
Patenprio
DE 202010201829 A1: 20200213