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Verfahren und Vorrichtung zur optischen Abstandsmessung

Opto-electronic measuring method for absolute measurement of gaps/clearances applies two or more stages with different large areas of clearness and different measuring accuracy
 
: Lehmann, P.; Depiereux, F.

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DE 102005061464 A: 20051222
DE 2005-102005061464 A: 20051222
WO 2006-EP10933 A: 20061115
WO 2006-EP70047 A: 20061220
DE 102005061464 A1: 20070705
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IPT ()

Abstract
Bei dem erfindungsgemaessen Messverfahren wird der genaue Messwert mehrstufig bestimmt, wobei Verfahren der Weisslichtinterferometrie mit Phasenmessung kombiniert werden. Die Phasenmessung erfolgt vorzugsweise zweistufig, wobei zunaechst mit groesserem Eindeutigkeitsbereich und geringerer Messgenauigkeit auf Basis einer synthetischen Wellenlaenge $I1 und danach mit der wahren Lichtwellenlaenge gearbeit wird. Es ergibt sich ein robustes Messverfahren mit grossem Messbereich und Aufloesung im Nanometerbereich.

 

DE 102005061464 A1 UPAB: 20070817 NOVELTY - Used for measurement from two sources of light with different average wavelengths ( L), light is guided with a probe to a measuring object surface. Reflected light is picked up again and fed to an interferometer with a plane mirror arranged at a slant so as to generate interference bands, which are detected with a line camera. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for an optoelectronic measuring device for absolute measurement of gaps/clearances in two or more stages with different large areas of clearness and different measuring accuracy. USE - For absolute opto-electronic measurement of gaps/clearances. In interferometric measurement. ADVANTAGE - The interference bands are detected with a line camera aligned vertically to the interference bands.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-63967.html