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Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von Absorber-Schichten fuer Duennschicht-Solarzellen

Depositing method for depositing absorber layers for thin-layer solar cells covers layer-forming elements in a vapor phase while depositing them on a substrate
 
: Straach, S.; Kuhlisch, S.; Schiller, N.

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DE 102005040087 A: 20050824
DE 2005-102005040087 A: 20050824
DE 102005040087 A1: 20070301
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer FEP ()

Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Abscheiden von Absorber-Schichten fuer Duennschicht-Solarzellen, wobei alle schichtbildenden Elemente in einer Vakuumarbeitskammer (1) koverdampft, in einer entstehenden Dampfphase (11) vermischt und auf einem Substrat (3) abgeschieden werden, wobei waehrend des Verdampfens im Raum zwischen Verdampferquellen (7; 8; 9) und Substrat (3) ein Plasma (13) gezuendet und aufrechterhalten wird, welches die Dampfphase (11) durchdringt und Dampfteilchen aller schichtbildenden Elemente ionisiert und anregt.

 

DE 102005040087 A1 UPAB: 20070608 NOVELTY - All layer-forming elements are cover-vapored in a vacuum working chamber (1), mixed in a vapor phase (11) and deposited on a substrate (3). During the vaporizing process, a plasma (13) is ignited and maintained in a space between a vaporizer's sources (9) and the substrate. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a device for depositing absorber layers for thin-layer solar cells. USE - For depositing absorber layers for thin-layer solar cells. ADVANTAGE - The plasma diffuses the vapor phase and ionizes and excites vapor particles in all layer-forming elements.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-60876.html