Fraunhofer-Gesellschaft

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Reflexionsminderndes Schichtsystem und Verfahren zu dessen Herstellung

 
: Pfeiffer, Kristin; Schulz, Ulrike; Szeghalmi, Adriana

:
Frontpage ()

DE 102018105859 A1: 20180314
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IOF ()

Abstract
Es wird ein reflexionsminderndes Schichtsystem (20) beschrieben, das eine Anordnung aus abwechselnden ersten Schichten (1) mit einem Brechungsindex nund zweiten Schichten (2) mit einem Brechungsindex n> nsowie eine Deckschicht (3) mit einem Brechungsindex n< numfasst, wobei die ersten Schichten (1) AlOaufweisen, ein Anteil der ersten Schichten (1) an der Gesamtdicke des reflexionsmindernden Schichtsystems (20) mindestens 40 % beträgt, ein Anteil der zweiten Schichten (2) an der Gesamtdicke des reflexionsmindernden Schichtsystems (20) weniger als 25 % beträgt, und die zweiten Schichten (2) jeweils weniger als 35 nm dick sind. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung des reflexionsmindernden Schichtsystems (20) durch Atomlagenabscheidung beschrieben.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-586081.html