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Title
Verfahren zum Herstellen eines semitransparenten Displays sowie ein semitransparentes Display
Date Issued
2019
Patent No
102017129524
Abstract
Die Erfindung betrifft ein semitransparentes Display sowie ein Verfahren zum Herstellen eines semitransparenten Displays mit den Verfahrensschritten:a) Bereitstellen eines SOI-Wafers (100), dessen Oberfläche mindestens einen Pixelbereich (109) und mindestens einen neben dem Pixelbereich (109) angeordneten Kontaktbereich (110) aufweist, wobei der SOI-Wafer (100) auf der Rückseite ein Silizium-Substrat (101) umfasst;b) Abscheiden mindestens einer, elektromagnetische Strahlung emittierenden Schicht (201) auf der Vorderseite des SOI-Wafers (100);c) Auftragen mindestens einer transparenten Deckschicht (202) oberhalb der mindestens einen, elektromagnetische Strahlung emittierenden Schicht (201)d) Befestigen eines Verdrahtungsträgers (501; 601) an dem Verbund, welcher mindestens umfasst, den SOI-Wafer (100), die elektromagnetische Strahlung emittierende Schicht (201) und die transparente Deckschicht (202), wobei vor dem Befestigen des Verdrahtungsträgers (501; 601) an dem Verbund, bestehend aus dem SOI-Wafer (100), der elektromagnetische Strahlung emittierenden Schicht (201) und der transparenten Deckschicht (202), das Silizium-Substrat (101) vom Verbund entfernt wird, wodurch ein Restverbund (301) entsteht und elektrisch leitfähige Verbindungen zwischen dem Kontaktbereich (110) des SOI-Wafers (100) und des Verdrahtungsträgers (501; 601) von der Rückseite des SOI-Wafers (100) her ausgebildet werden.
Language
de
Patenprio
DE 102017129524 A1: 20171212