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Title
Vorrichtung und Verfahren zur quantitativen Analyse der Verschmutzung von Oberflächen
Date Issued
2019
Author(s)
Brachmann, Stefan
Ketterer, Jürgen
Patent No
102017221843
Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur quantitativen Analyse der Verschmutzung von Oberflächen. Diese umfasst eine mindestens eine Strahlungsquelle enthaltende Strahlungsquelleneinheit, eine mindestens einen Strahlungsdetektor enthaltende Strahlungsdetektoreinheit, eine Halterung, durch welche die Strahlungsquelleneinheit und die Strahlungsdetektoreinheit fixiert sind und eine Steuereinheit zur Steuerung der Vorrichtung sowie zur Auswertung eines im Strahlungsdetektor erzeugten Signals. Ferner umfasst die Vorrichtung ein optisches Filterelement und/oder ein elektronisches Filterelement. Zudem betrifft die vorliegende Erfindung auch ein Verfahren zur quantitativen Analyse der Verschmutzung von Oberflächen. Die erfindungsgemäße Vorrichtung bzw. das erfindungsgemäße Verfahren ermöglichen eine einfache und zuverlässige sowie zeit- und kostensparende Beurteilung der Staub- und Schmutzbelastung auf Oberflächen, wie z.B. auf Oberflächen von Photovoltaik-Modulen (PV-Modulen).
Language
de
Patenprio
DE 102017221843 A1: 20171204