Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Chemical vapor deposition of tantalum nitride films for metal gate application using TBTDET and novel single-source MOCVD precursors

 
: Lemberger, M.; Baunemann, A.; Bauer, A.J.

:

Microelectronics reliability 47 (2007), No.4-5, pp.635-639
ISSN: 0026-2714
English
Journal Article
Fraunhofer IISB ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-55642.html