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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Aspects of high aspect ratio silicon etching - capacitor application
 
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2018
Presentation
Title

Aspects of high aspect ratio silicon etching - capacitor application

Title Supplement
Presentation held at VDI GMM Workshop 2018, December 5th, Erlangen, Germany
Author(s)
Rudolph, Matthias  
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Pätzold, Björn
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Czernohorsky, Malte  
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Conference
VDE/VDI-Gesellschaft Mikroelektronik, Mikro- und Feinwerktechnik (Fachtagung) 2018  
Request publication:
bibliothek@ipms.fraunhofer.de
Language
English
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
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