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Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung

Semiconductor device and method of producing a semiconductor device
 
: Henfling, Michael; Neumeier, Karl; Trupp, Sabine

:
Frontpage ()

DE 102017200952 A1: 20170120
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer EMFT ()

Abstract
Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung mit: Bereitstellen einer Trägerstruktur, die ein Halbleitersubstrat aufweist; Aufbringen oder Einbringen einer Vorläufersubstanz auf oder in die Trägerstruktur; Behandeln der Vorläufersubstanz zum Erzeugen einer porösen Matrixstruktur; Einbringen einer Funktionalisierungssubstanz in die poröse Matrixstruktur.

 

A method of producing a semiconductor device includes providing a carrier structure having a semiconductor substrate; applying or introducing a precursor substance onto or into the carrier structure, treating the precursor substance for producing a porous matrix structure; introducing a functionalization substance into the porous matrix structure.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-530888.html