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Verfahren zur Herstellung eines reflexionsmindernden Schichtsystems

Method for producing a reflection-reducing layer system
 
: Knopf, Heiko; Munzert, Peter; Rickelt, Friedrich; Schulz, Ulrike; Wolleb, Sabrina

:
Frontpage ()

DE 102016125197 A1: 20161221
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IOF ()

Abstract
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines reflexionsmindernden Schichtsystems auf einem Substrat (1) beschrieben, das folgende Schritte umfasst:- Abscheidung einer organischen Schicht (2),- Erzeugung einer Nanostruktur (4) in der organischen Schicht (2) durch einen Plasmaätzprozess,- Aufbringen einer Deckschicht (3) auf die Nanostruktur (4), wobei die mit der Nanostruktur (4) versehene organische Schicht (2) und die Deckschicht (3) gemeinsam eine reflexionsmindernde Struktur (6) bilden, wobei die Deckschicht (3) ein anorganisches Material oder eine Silizium-organische Verbindung aufweist, und wobei die Deckschicht (3) mindestens 5 nm dick ist, und- Durchführung einer Nachbehandlung nach dem Aufbringen der Deckschicht (3), wobei das Material der organischen Schicht (2) zumindest teilweise entfernt, zersetzt oder chemisch umgewandelt wird.

 

The invention relates to a method for producing a reflection-reducing layer system on a substrate (1), comprising the following steps: depositing an organic layer (2); generating a nanostructure (4) in the organic layer (2) using a plasma etching process; applying a cover layer (3) onto the nanostructure (4), wherein the organic layer (2) provided with the nanostructure (4) and the cover layer (3) together form a reflection-reducing structure (6), wherein the cover layer (3) has an inorganic material or a silicon-organic compound, and wherein the cover layer (3) is at least 5 nm thick; and carrying out a post-treatment after the application of the cover layer (3), wherein the material of the organic layer (2) is at least partially removed, broken down or chemically converted, and wherein the effective refractive index neff,2 of the reflection-reducing structure (6) is smaller after the post-treatment than the effective refractive index neff,1 of the reflection-reducing structure (6) before the post-treatment.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-530849.html