Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Mask defect printing mechanisms for future lithography generations

 
: Erdmann, A.; Graf, T.; Bubke, K.; Höllein, I.; Teuber, S.

:

Flagello, D.G. ; Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers -SPIE-, Bellingham/Wash.:
Optical microlithography XIX : 21 - 24 February 2006, San Jose, California, USA
Bellingham/Wash.: SPIE, 2006 (SPIE Proceedings Series 6154)
ISBN: 0-8194-6197-0
ISBN: 978-0-8194-6197-1
Paper 61541C
Conference "Optical Microlithography" <19, 2006, San Jose/Calif.>
English
Conference Paper
Fraunhofer IISB ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-51952.html