Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Rigorous mask modeling beyond the Hopkins approach

 
: Schermer, J.; Evanschitzky, P.; Erdmann, A.

:

Behringer, U.F.W. ; VDE/VDI-Gesellschaft Mikroelektronik, Mikro- und Feinwerktechnik -GMM-; Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers -SPIE-, Bellingham/Wash.:
EMLC 2006, 22nd European Mask and Lithography Conference : 23 - 26 January 2006, Dresden, Germany
Bellingham/Wash.: SPIE, 2006 (SPIE Proceedings Series 6281)
ISBN: 0-8194-6356-6
Paper 62810A
European Mask and Lithography Conference (EMLC) <22, 2006, Dresden>
English
Conference Paper
Fraunhofer IISB ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-51949.html