Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Rigorous mask modelling beyond the hopkins approach

 
: Schermer, J.; Evanschitzky, P.; Erdmann, A.

Behringer, U. ; VDE/VDI-Gesellschaft Mikroelektronik, Mikro- und Feinwerktechnik -GMM-:
EMLC 2006, 22nd European Mask and Lithography Conference : Lectures held at the GMM-conference January 23 - 26, 2006 in Dresden, Germany
Berlin: VDE-Verlag, 2006 (GMM-Fachbericht 49)
ISBN: 3-8007-2931-8
ISBN: 978-3-8007-2931-9
pp.95-100
European Mask and Lithography Conference (EMLC) <22, 2006, Dresden>
English
Conference Paper
Fraunhofer IISB ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-51948.html