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Elektrostatisches Ablenksystem fuer Korpuskularstrahlung

Electrostatic diffraction system for corpuscular radiation for micro and nano structure lithography or measurement has axially symmetric bar electrodes around inner hollow carrier having from two to four elements
 
: Risse, S.; Peschel, T.; Damm, C.; Gebhardt, A.; Rohde, M.; Schenk, C.; Elster, T.; Doering, H.; Schubert, G.

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DE 102005005801 A: 20050204
DE 2005-102005005801 A: 20050204
EP 2006-2118 A: 20060202
EP 1688964 A2: 20060809
DE 102005005801 B4: 20070809
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IOF ()

Abstract
Die Erfindung betrifft elektrostatische Ablenksysteme fuer Korpuskularstrahlen, die insbesondere fuer mikro- und nanostrukturierte Anwendungen in Lithographieanlagen oder Messgeraeten einsetzbar sind. Gemaess der gestellten Aufgabe sollen die einzelnen Elektroden eines solchen Ablenksystems dauerhaft eine sehr genaue axialsymmetrische Anordnung zueinander aufweisen und beibehalten. Bei dem erfindungsgemaessen elektrostatischen Ablenksystem sind stabfoermige Elektroden in axialsymmetrischer Anordnung in einem innen hohlen Traeger gehalten, durch den ein Korpuskularstrahl gerichtet werden kann. Der Traeger ist dabei aus mindestens zwei und maximal vier miteinander verbindbaren Traegerelementen gebildet.

 

EP 1688964 A2 UPAB: 20060919 NOVELTY - An electrostatic diffraction system for corpuscular radiation for micro- and nano-structure lithography or measurement comprises bar electrodes held axially and symmetrically in an inner hollow carrier (1) through which an electron beam is directed. The carrier comprises between two and four mutually connectible carrier elements (1.1,1.2). USE - As an electrostatic diffraction system for corpuscular radiation such as electrons for micro- and nano-structure lithography (claimed). ADVANTAGE - Individual electrodes have and retain a very exact mutual axially symmetric arrangement and are readily accessible.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-51824.html