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Transmissionsfilter fuer den EUV-Spektralbereich

Transmission filter e.g. band-pass filter, for extreme ultraviolet spectral region, has layer sequence of number of layer pairs from respective two layers, where layers consist of different materials
 
: Kozhevnikov, I.; Kaiser, N.; Yulin, S.; Feigl, T.

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DE 102005016591 A: 20050411
DE 2005-102005016591 A: 20050411
DE 102005016591 A1: 20061019
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IOF ()

Abstract
Ein Transmissionsfilter fuer den EUV-Spektralbereich enthaelt gemaess der Erfindung eine Schichtenfolge (3, 16) aus einer Vielzahl von alternierenden Schichten (1, 2), wobei jeweils eine erste Schicht (1) und eine zweite Schicht (2), die aus verschiedenen Materialien bestehen, ein Schichtpaar (4) der Schichtenfolge (3, 16) ausbilden. Die Schichtenfolge (3, 16) kann sowohl eine periodische Schichtenfolge (3) als auch eine aperiodische Schichtenfolge (16) sein. Ein EUV-Transmissionsfilter gemaess der Erfindung zeichnet sich insbesondere durch eine volle Halbwertsbreite von weniger als 0,5 nm, beispielsweise bei einer Wellenlaenge von 13,5 nm, aus.

 

DE 102005016591 A1 UPAB: 20070115 NOVELTY - The filter has a layer sequence of a number of layer pairs (4) from respective two layers (1, 2), where the layers consist of different materials. The layer (1) consists of a metal connection, and the layer (2) consists of a silicon layer. The number of layer pairs amounts to between 10 and 100. The thickness of the layer (1) is between 0.5 and 2 Newton metre, and the thickness of the layer (2) is between 4.5 and 7.5 Newton metre. USE - Transmission filter e.g. band-pass filter, for extreme ultraviolet (EUV) spectral region in a semiconductor industry, and in an entrance window of a detector for extreme ultraviolet radiation (claimed). ADVANTAGE - The filter possesses a narrow band transmission curve with a full half-power bandwidth of less than 0.5 Newton metre, and simplifies the spectral bandwidth of a radiation of an extreme ultraviolet radiation source.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-51775.html