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Elektrochemische Abscheidung von Aluminium und Palladium aus ionischen Flüssigkeiten für das reaktive Waferbonden

 
: Hertel, S.; Schröder, T.J.; Wünsch, D.; Wiemer, M.; Geßner, T.

Galvanotechnik 108 (2017), No.8, pp.1550-1562
ISSN: 0016-4232
German
Journal Article
Fraunhofer ENAS ()

Abstract
Ziel der elektrochemischen Abscheidung (ECD) von Aluminium (Al) und Palladium (Pd) aus ionischen Flüssigkeiten ist die Herstellung von nanoskaligen reaktiven Materialsystemen (RMS) für ein Waferbondverfahren bei Raumtemperatur. Das Schichtsystem Al/Pd ist ein hochenergetisches System, welches nach Initiierung chemisch exotherm miteinander reagiert. Durch die schnelle Reaktion erfolgt eine lokale Erhitzung, wodurch ein Fügeprozess möglich ist. Derzeit werden die RMS in einem alternierenden Sputterprozess (Kathodenzerstäubung) hergestellt, wobei die Abscheidung auf mehreren Substraten gleichzeitig große Anforderungen an die Anlagentechnik stellt.

 

The aim of the electrochemical deposition (ECD) of aluminum and palladium from ionic liquids is the fabrication of nano scale reactive material systems (RMS), which can be used for a room-temperature wafer bond technology. The Al/Pd system is a high energetic system. The RMS react chemical exothermally after ignition. This very fast reaction can be used for a local heating process during the joining of substrates. At the moment, the RMS are produced by an alternating sputter process. But the deposition on more substrates simultaneously will be a challenging task for the plant engineering.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-470727.html