Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

The impact of EUV mask defects on lithographic process performance

 
: Evanschitzky, P.; Erdmann, A.

:

Behringer, U.F.W. ; VDE/VDI-Gesellschaft Mikroelektronik, Mikro- und Feinwerktechnik -GMM-; Forschungszentrum Karlsruhe GmbH, Institut für Mikrostrukturtechnik; Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers -SPIE-, Bellingham/Wash.:
20th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents. Proceedings : 12 - 14 January 2004, Dresden, Germany
Bellingham/Wash.: SPIE, 2004 (SPIE Proceedings Series 5504)
ISBN: 0-8194-5437-0
pp.111-119
European Mask Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Micro-Components (EMC) <20, 2004, Dresden>
English
Conference Paper
Fraunhofer IISB ()

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-46596.html