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Thermisch stabiler Multilayer-Spiegel fuer den EUV-Spektralbereich

Thermally stable multilayer mirror, e.g. for EUV spectral region, has number of alternating molybdenum layers and silicon layers with barrier layer placed on boundary surfaces between layers.
 
: Benoit, N.; Feigl, T.; Yulin, S.; Kaiser, N.

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DE 102004062289 A: 20041223
DE 2004-102004062289 A: 20041223
DE 102004062289 B4: 20070719
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IOF ()

Abstract
Bei einem Multilayer-Spiegel (1) zur Reflexion von EUV-Strahlung, der eine Mehrzahl alternierender Molybdaenschichten (4) und Siliziumschichten (3) enthaelt, ist an mehreren Grenzflaechen zwischen den Molybdaenschichten (4) und den Siliziumschichten (3) jeweils eine Barriereschicht (5) angeordnet, die ein Siliziumnitrid oder ein Siliziumborid enthaelt. Durch die Barriereschichten (5) aus einem Siliziumnitrid oder einem Siliziumborid wird eine hohe thermische Stabilitaet, insbesondere eine hohe Langzeitstabilitaet bei Temperaturen von mehr als 300°C, bei gleichzeitig hoher Reflexion des Multilayer-Spiegels erreicht. Ein derartiger Multilayer-Spiegel (1) kann insbesondere als heizbarer Kollektorspiegel einer EUV-Strahlungsquelle verwendet werden.

 

WO2006066563 A UPAB: 20060724 NOVELTY - A multilayer mirror (1) has a number of alternating molybdenum layers (4) and silicon layers (3). A barrier layer (5) is placed on a number of boundary surfaces between the molybdenum layers and the silicon layers and contains a silicon nitride or a silicon boride. A high thermal stability, particularly a high long-time stability at temperatures of greater than 3000 deg. C with a simultaneously high degree of reflection of the multilayer mirror is achieved by the barrier layers made of a silicon nitride or a silicon boride. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is included for the use of the multilayer mirror. USE - Used for reflecting EUV radiation. For heatable collector mirror of EUV radiation source. ADVANTAGE - The mirror demonstrates high thermal stability as well as high reflection

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-45974.html