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Vorrichtung zum Aufdampfen eines Beschichtungsmaterials

Device for vaporization of coating material onto substrate with useful for coating large surfaced substrates, e.g. plates or films with thin metal semiconductor layers, or metal carbide or nitride layers has vapor distribution space.
 
: May, C.; Leo, K.; Edelmann, C.

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DE 102004054362 A1: 20041110
DE 2005-102005010929 A: 20050309
DE 102005010929 A1: 20060511
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IPMS ()

Abstract
Eine Vorrichtung zum Aufdampfen eines Beschichtungsmaterials auf einem Substrat umfasst einen Dampfverteilungsraum zum Aufnehmen einer Verdampfungsquelle, wobei der Dampfverteilungsraum einen Duesenabschnitt aufweist, der eine laengliche Form hat, die eine Laenge und eine Breite hat, wobei die Laenge groesser oder gleich einer Breite des zu beschichtenden Substrats ist, und wobei die Breite kleiner als die Laenge ist, und wobei der Duesenabschnitt ferner eine Hoehe aufweist, um die der Duesenabschnitt von dem Dampfverteilungsraum hervorsteht, wobei die Hoehe groesser als die Breite ist.

 

DE1005010929 A UPAB: 20060616 NOVELTY - Device for vaporization of a coating material onto a substrate (119) with a vapor distribution space (115) for reception of a vapor from a vaporization source, having a longitudinal nozzle section (137) of length at least the substrate width and width is less than the length. The nozzle section projects from the distribution space and its height is greater than its width. USE - The device is useful for coating large surface substrates, e.g. plates or films with thin metal semiconductor layers, or metal carbide or nitride layers. ADVANTAGE - The device enables uniform and homogeneous coatings to be deposited.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-45955.html