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Vorrichtung zur Reinigung von Innenraeumen in Vakuumkammern

Device for cleaning interior of vacuum chamber, used e.g. for physical or chemical vapor deposition, comprising carrier with electrode(s) connected to D.C. source, for electrostatically fixing contaminants.
 
: Loeffler, F.; May, C.

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DE 102005025101 A: 20050527
DE 2005-102005025101 A: 20050527
DE 102005025101 B3: 20060713
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IPMS ()

Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Reinigung von Innenraeumen in Vakuumkammern, wie sie insbesondere bei Anlagentechnik zur Oberflaechenmodifizierung und Vakuumbeschichtungstechnologie auf unterschiedlichen Substraten eingesetzt werden. Dabei ist es Aufgabe der Erfindung, solche Innenraeume effektiv zu reinigen und auch freie Partikel zu entfernen. Die erfindungsgemaesse Vorrichtung weist dabei mindestens eine Elektrode, die auf einem Traeger angeordnet ist, auf. Sie ist durch eine Vakuumkammer hindurch- oder einfuehrbar. Die Elektrode(n) ist/sind an eine Gleichspannungsquelle angeschlossen oder kann/koennen an eine solche angeschlossen werden. Dadurch koennen elektrisch geladene oder polare Verunreinigungen elektrostatisch an mindestens einer Elektrode fixiert und aus einer Vakuumkammer mit der Vorrichtung entfernt werden.

 

DE1005025101 B UPAB: 20060804 NOVELTY - A device for cleaning the interior space of vacuum chambers consists of a carrier (3) for electrical electrode(s) (1,2) connected (or connectable) to a D.C. source, to be introduced into or passed through the chamber, so that electrically charged or polar contaminants in the chamber interior become electrostatically fixed to the electrode(s) (due to the electrostatic field formed by the electrode(s)) and removable from the chamber interior. USE - Especially for cleaning vacuum coating chambers for use in surface modification, e.g. by physical or chemical vapor deposition methods. ADVANTAGE - The devices are highly effective in cleaning the vacuum chamber interiors, and (unlike conventional mechanical and/or chemical cleaners) remove free particles as well as deposits on chamber surfaces. Cleaning is rapid and inexpensive, and use of toxic cleaning chemicals (requiring special safety precautions) is avoided.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-45950.html