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Anordung zur Bestimmung der Tiefe von in Oberflächen eines Substrates, auf dem mindestens eine Schicht aus einem vom Substratmaterial abweichendes Material ausgebildet ist, ausgebildeten Vertiefungen

Arrangement for determining the depth of recesses formed in surfaces of a substrate on which at least one layer is formed from a material different to the substrate material
 
: Wollmann, Philipp; Grählert, Wulf; Gruber, Florian

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Frontpage ()

DE 102015223853 A1: 20151201
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer IWS ()

Abstract
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Bestimmung der Tiefe von in Oberflächen eines Substrates, auf dem mindestens eine Schicht ausgebildet ist, ausgebildeten Vertiefungen. Dabei sind mehrere Detektoren, die zur ortsaufgelösten spektralen Analyse elektromagnetischer Strahlung innerhalb eines Wellenlängenintervalls ausgebildet sind, vorhanden. Die Detektoren sind mit einer Auswerteeinheit verbunden und so angeordnet, dass von einer Strahlungsquelle emittierte Strahlung auf die Detektoren auftrifft. Die Bestrahlung erfolgt auf eine Fläche, von der die elektromagnetische Strahlung reflektiert oder durch die Fläche transmittiert wird. Die Auswerteeinheit ist so ausgebildet, dass die Orts- und wellenlängenaufgelöst erfassten Messsignale der Detektoren innerhalb eines Wellenlängenintervalls für einzelne Ortspunkte erfassbar sind. An mehreren Positionen erfasste Messsignale werden einem Teilbereich zugeordnet. Anhand dieser Orts- und wellenlängenaufgelöst erfassten Messsignale kann ein Vergleich mit vorab ermittelten Messwerten, die in analoger Weise an Vergleichsmustern durchgeführt werden. Bei ausreichender Übereinstimmung kann die Tiefe bestimmt werden.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-455668.html