Fraunhofer-Gesellschaft

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Laser-gestützte physikalische und chemische Dampfphasenabscheidung

Laser-assisted Physical and Chemical Vapor Deposition of Thin Films
 
: Schultrich, B.; Scheibe, H.J.; Hopfe, V.

LaserOpto 33 (2001), No.2, pp.42-48
ISSN: 1437-3041
German
Journal Article
Fraunhofer IWS ()
PLD; Laser-Arc; Kohlenstoff-Schicht; Faserbeschichtung; Laser-Verfahren; Laserchemie; Kohlenstoff; Faser

Abstract
In der Dünnschichttechnologie haben sich Laser als präzises Werkzeug zur Abscheidung von besonders hochwertigen Schichten mittels der Pulslaserabscheidung (Pulsed Laser Deposition, PLD) bewährt. Die breitere industriellen Anwendung dieses Laser-Verfahrens ist jedoch durch die geringen Beschichtungsraten beschränkt. In der Form von Hybridtechnologien, d.h. durch Kombination mit anderen Verfahren, lassen sich diese Einsatzgrenzen überwinden. Die damit erreichbaren Möglichkeiten werden am Beispiel des Laser-Arc zur Abscheidung von superharten, amorphen Kohlenschichten und der Laser-CVD zur Beschichtung von Keramik- und Kohlenstoff-Fasern demonstriert.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-4515.html