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Title
Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung von Substraten in einem Plasma-CVD-Beschichtungsverfahren mit Ionenunterstuetzung
Date Issued
2002
Author(s)
Hoeing, T.
Klages, C.
Matthee, T.
Ingelhag, A.
Larval, J.
Patent No
2000-10024573
Abstract
Eine Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten in einem Plasma-CVD-Beschichtungsverfahren mit Ionenunterstuetzung besitzt eine Elektrode, die das Substrat bildet oder auf der das Substrat angeordnet ist, und einen Bereich fuer das sich ausbildende Plasma. Ausserdem sind zwischen dem Substrat und dem Plasma metallisch leitende Elemente mit einem vorbestimmten elektrischen Potential angeordnet. Auf diese Weise findet eine Ablenkung der Ionen auf ihrem Weg vom Plasma zum Substrat statt, und es kann auch eine Beschichtung mit Ionenunterstuetzung in sonst unzugaenglichen Bereichen innerhalb des Substrates erfolgen.
DE 10024573 C UPAB: 20020123 NOVELTY - Apparatus for coating substrates (11) comprises an electrode (10); and a plasma forming a region (21). Metallic electrically conducting elements (30) with a predetermined electrical potential are arranged in the dark chamber between the substrate and the plasma so that ions can be deviated on their path from the plasma to the substrate. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a process for coating substrates using the above apparatus. Preferred Features: The metallic electrically conducting elements are wires lying on an electrical potential which is smaller than the plasma potential. USE - Used for coating substrates in a plasma CVD coating process. ADVANTAGE - A uniform coating can be formed.
Language
de
Patenprio
DE 2000-10024573 A: 20000519