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Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Extrem- Ultraviolettstrahlung/weicher Roentgenstrahlung

Generating extreme ultraviolet radiation/weak x-radiation involves displacing and/or deforming radiation emitting plasma formed by adding energy using pressure gradient in gas filling.
 
: Neff, W.; Bergmann, K.; Pankert, J.; Rosier, O.

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Frontpage ()

DE 2001-10117378 A1: 20010406
DE 2001-10134033 A: 20010712
EP 2002-740221 AW: 20020321
WO 2002-DE1017 A: 20020321
DE 10134033 A1: 20021017
EP 1384394 A1: 20040128
H05G0002
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer ILT ()

Abstract
Verfahren zum Erzeugen von Extrem-Ultraviolettstrahlung/weicher Roentgenstrahlung, mittels einer Gasentladung, insbesondere fuer die EUV-Lithographie, bei dem in einem Entladungsgefaess (11) zwei Elektroden an Hochspannung gelegt werden, zwischen denen in einem Bereich zweier gleichachsiger Elektrodenausnehmungen (12, 13) eine Gasfuellung mit vorbestimmtem Gasdruck entsprechend eines auf dem linken Zweig der Paschen-Kurve erfolgenden Entladungsbetriebs bereitgestellt wird, in der ein die Strahlung abgebendes Plasma (10) unter Energiezufuhr ausgebildet wird, dadurch gekennzeichnet, dass das Plasma (10) im Bereich der Elektrodenausnehmungen (12, 13) mittels einer Druckaenderung der Gasfuellung verlagert wird.

 

DE 10134033 A UPAB: 20030129 NOVELTY - The method involves using a gas discharge in a discharge vessel (11) with two electrodes held at high voltage with a gas filling at predefined pressure in a region of two coaxial electrode apertures (12,13) in accordance with discharge operation on the left branch of the Pasch curve. The radiation emitting plasma (10) is formed by adding energy and is displaced and./or deformed by a pressure gradient in the gas filling. DETAILED DESCRIPTION - AN INDEPENDENT CLAIM is also included for the following: an arrangement for generating extreme ultraviolet radiation/weak x-radiation. USE - For generating extreme ultraviolet radiation/weak x-radiation, especially for extreme ultraviolet lithography. ADVANTAGE - Improved so that the radiation can be better coupled out from the electrodes and an optimum plasma geometry is achieved, i.e. an axially shorter emission region.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-44715.html