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Gasentladungslampe fuer EUV-Strahlung

Gas discharge lamp for EUV radiation has axes of symmetry of hollow cathode- and anode openings, which intersect in common point.
 
: Neff, W.; Bergmann, K.; Jonkers, J.; Pankert, J.; Derra, G.

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DE 2002-10256663 A: 20021204
DE 2002-10256663 A: 20021204
EP 2003-812235 AW: 20031128
WO 2003-IB5496 A: 20031128
DE 10256663 B3: 20051013
EP 1570507 A1: 20050907
H05G0002
H01J0061
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer ILT ()

Abstract
(B3) Die Erfindung betrifft eine Gasentladungslampe fuer EUV-Strahlung, mit einer Anode (1) und einer Hohlkathode (2), bei der die Hohlkathode (2) mindestens zwei Oeffnungen (3, 3') und die Anode (1) eine durchgehende Oeffnung (4) aufweist, und die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Laengsachsen (5, 5') der Hohlkathodenoeffnungen (3) einen gemeinsamen Schnittpunkt S haben, der auf der Symmetrieachse (6) der Anodenoeffnung (4) liegt.

 

WO2004051698 A UPAB: 20040720 NOVELTY - The longitudinal axes (5, 5') of the hollow cathode openings (3), have a common point of intersection (S) lying on the anode opening (4) axis of symmetry (6). USE - A gas discharge lamp for EUV (extreme ultraviolet) radiation. ADVANTAGE - A pinch plasma is formed, emitting in the extreme ultraviolet range is formed. The plasma is very localized. At the same time, erosion of the cathode material is minimized.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-44673.html