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Verfahren zum Mikroverkapseln von Partikeln aus feuchtigkeitsempfindlichen Treib- und Explosivstoffen sowie mikroverkapselte Partikel aus solchen Treib- und Explosivstoffen

Production of microencapsulated moisture sensitive propellants, explosives and oxidizing agents comprises wax coating raw material particles and encapsulating with amine resin.
 
: Teipel, U.; Heintz, T.; Leisinger, K.; Krause, H.; Nastke, R.; Rafler, G.

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DE 1999-19923202 A: 19990520
DE 1999-19923202 A: 19990520
DE 19923202 B4: 20040923
C06B0021
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer ICT ()

Abstract
(A1) Es wird ein Verfahren zum Mikrokapseln von Partikeln aus feuchtigkeitsempfindlichen Treib- und Explosivstoffen sowie Oxidatoren, insbesondere Ammoniumdinitramid (ADN) und/oder Ammoniumnitrat (AN) vorgeschlagen. Die Partikel werden unter Ausschluss von Feuchtigkeit mit einer duennen Schicht aus einem wachsartigen Material beschichtet, indem sie z. B. in eine Schmelze des wachsartigen Materials eingebracht werden, die Schmelze mit einem Adsorbens fuer das wachsartige versetzt und abgekuehlt wird. Anschliessend werden die derart beschichteten Partikel mit einer Aminoharzschicht verkapselt, indem sie beispielsweise in eine waessrige Loesung eines Aminoharzpraekondensates eingebracht werden, wobei das Praekondensat unter Bildung der Aminoharzschicht polykondensiert.

 

DE 19923202 A UPAB: 20010224 NOVELTY - A process for the microencapsulation of moisture sensitive propellants, explosives and oxidizing agents, preferably ammonium dinitramide (ADN) or ammonium nitrate (AN), comprises: (1) coating the particles with a thin layer of a waxy material with the exclusion of moisture, and (2) encapsulating the coated particles with an amine resin layer. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is included for the microencapsulated particles. USE - The process is useful for the microencapsulation of moisture sensitive propellants, explosives and oxidizing agents. ADVANTAGE - The encapsulated particles have improved storage stability and moisture resistance.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-44402.html