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Title
Verfahren zur Reinigung von technischen Oberflaechen mit schwer zugaenglicher und/oder gegenueber oxidativem Angriff empfindlicher Oberflaechenstruktur
Date Issued
2001
Author(s)
Hirth, T.
Schweppe, R.
Patent No
1999-19933034
Abstract
Es wird ein Verfahren zur Reinigung von technischen Oberflaechen mit schwer zugaenglicher, durch organische Verunreinigungen belegter und/oder gegenueber oxidativem Angriff empfindlicher Oberflaechenstruktur, wie Filterelemente, Spinnduesen, Katalysatormaterialien oder dergleichen, vorgeschlagen. Die verunreinigten Oberflaechen werden mit ueberkritischem Wasser in Kontakt gebracht, die Verunreinigungen in dem ueberkritischen Wasser geloest und das Wasser zusammen mit den geloesten Verunreinigungen vor oder nach Ueberfuehren in einen unterkritischen Zustand von der gereinigten Oberflaeche abgetrennt. Das mit den organischen Verunreinigungen beladene Wasser wird vorzugsweise gereinigt, indem es in einen unterkritischen Zustand ueberfuehrt und die dabei ausfallenden Verunreinigungen mechanisch abgetrennt werden und/oder das beladene Wasser wird einer unter- oder ueberkritischen Nassoxidation unterzogen.
DE 19933034 A UPAB: 20010312 NOVELTY - Purifying technical surfaces having a structure that is difficult to access, is coated with organic impurities and/or is sensitive to oxidative attack comprises contacting the surfaces with super-critical water, dissolving the impurities in the water and removing the water together with the dissolved impurities from the surface before or after converting into a sub-critical state. DETAILED DESCRIPTION - Preferred Features: The super-critical water is held under a pressure of at least 250, preferably 320-380, especially 420-480 bar. Oxygen is added to the super-critical water. USE - For cleaning the surfaces of filter elements, spinning nozzles and catalyst materials which are contaminated with polymers. ADVANTAGE - The surfaces to be cleaned are not damaged during the process.
Language
de
Patenprio
DE 1999-19933034 A: 19990715