Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Entwicklung eines Herstellungsprozesses für niederohmige, vertikale Leistungs-MOS-Transistoren in Trenchtechnologie unter Verwendung von nur drei Lithographieschritten

 
: Wahl, Uwe

Berlin: Mensch & Buch Verlag, 2000, VI, 154 pp.
Zugl.: Duisburg, Univ., Diss., 2000
ISBN: 3-89820-126-0
ISBN: 978-3-89820-126-1
German
Dissertation
Fraunhofer IMS ()
MOS-FET; Lithographie; Leistungstransistor

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-442566.html