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Einrichtung zur Erzeugung von Plasmen durch Hochfrequenzentladungen

Plasma generation device for producing plasmas through high-frequency charges treats plasmas and ions while precipitating layers through polymerization onto ribbon material or molded substrates.
 
: Rank, R.; Morgner, H.; Schiller, N.; Weiske, D.; Schmidt, J.

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DE 2002-10247888 A: 20021014
DE 2002-10247888 A: 20021014
EP 2003-21701 A: 20030925
DE 10247888 A1: 20040422
EP 1411539 A2: 20040421
H05H0001
H01J0037
German
Patent, Electronic Publication
Fraunhofer FEP ()

Abstract
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zur Erzeugung von Plasmen durch Hochfrequenzentladungen fuer die Plasma- und Ionenbehandlung oder zur Abscheidung von Schichten durch Plasmapolymerisation auf flache platten- oder bandfoermige Materialien oder anders geformte Substrate in Vakuumanlagen mit Hilfe eines mit Hochfrequenz gespeisten Plasmas, enthaltend mindestens zwei Elektroden, zwischen denen eine Plasmaentladung unterhalten werden kann, wobei eine Elektrode als Hohlelektrode 1 ausgefuehrt ist, eine geerdete ebene oder gekruemmte Flaeche eine Gegenelektrode 16 bildet und die der Plasmaentladung abgewandte Seite der Hohlelektrode 1 von einer Abschirmelektrode 3 umschlossen ist, wobei der Raum zwischen Hohlelektrode 1 und Abschirmelektrode 3 vom Vakuum druckentkoppelt ausgefuehrt ist und in diesem Raum ein gegenueber dem Vakuum erhoehter Druck eingestellt werden kann.

 

EP 1411539 A UPAB: 20040514 NOVELTY - Plasma layers are precipitated on ribbon-type material or molded substrates in vacuum equipment with the help of a plasma fed with a high frequency. One electrode operates as a hollow electrode (HE) (1). An earthed flat or curved surface forms a counter-electrode (16). A shielding electrode (3) surrounds the HE's side opposite a plasma discharge. USE - For fitting on the rear side of a hollow electrode with a shielding electrode in order to avoid electromagnetic re-radiation, during the coating of large-area substrates with plasma polymerization. ADVANTAGE - A plasma discharge can be maintained between two electrodes. Space between the hollow electrode and the shielding electrode is operated by a vacuum decoupled from pressure. Also, pressure increased in contrast to the vacuum can be adjusted in this space.

: http://publica.fraunhofer.de/documents/N-44203.html